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    高純鈦靶材的應用!

    發布時間:2022-05-12 09:18:29 丨 瀏覽次數:

      眾所周知,純度是靶材的主要性能指標之一。在實際應用中,靶材的純度要求也不同。與普通工業純鈦相比,高純鈦價格昂貴,應用范圍窄。主要用于滿足一些特殊行業的需要。那么,高純鈦靶材的主要應用是什么呢?

      高純鈦靶材的應用主要包括:

      1.生物材料

      鈦是一種非磁性金屬,在強磁場中不會被磁化,與人體相容性好,無毒副作用。它可用于制造人體植入裝置。一般醫用鈦材料未達到高純鈦的水平,但考慮到鈦中雜質的溶解,植入物用鈦的純度應盡可能高。高純鈦絲可用作生物結合材料。此外,嵌入導管內的鈦注射針也達到高純鈦水平。

      2.裝飾材料

      高純鈦具有優異的耐大氣腐蝕性,在大氣中長期使用不會變色,確保鈦的原始自然顏色。因此,高純鈦也可用作建筑裝飾材料。此外,近年來,一些高端裝飾品和一些佩戴物品,如手鐲、手表和眼鏡架,都是由鈦制成的,利用了鈦的特性,如耐腐蝕、不變色、長期光澤好、與人體皮膚接觸時不致敏。某些裝飾用鈦的純度已達到5N級。

      3.吸氣材料

      作為一種化學性質非?;钴S的金屬,鈦可以在高溫下與許多元素和化合物發生反應。高純鈦對活性氣體(如O2、N2、CO、CO2和650℃以上的水蒸氣)有很強的吸附作用。泵壁上蒸發的Ti膜可形成具有高吸附容量的表面。這一特性使得Ti在超高真空泵系統中被廣泛用作吸氣劑。如果用于升華泵濺射離子泵,極限工作壓力濺射離子泵可降低至10-9pa。

      4.電子信息材料

      近年來,隨著半導體技術、信息技術等高科技領域的飛速發展,高純鈦在濺射靶材、集成電路、DRAMs和平板顯示器中的應用越來越多,對鈦材料的純度要求也越來越高。在半導體超大規模集成電路工業中,控制電極采用鈦硅化合物、鈦氮化合物、鎢鈦化合物等作為擴散阻擋層和布線材料。濺射法用于制造這些材料,濺射法中使用的鈦靶材要求高純度,尤其是堿金屬元素和放射性元素的含量非常低。

      近年來,其配套的濺射設備也開始使用與濺射鈦靶材純度相同的高純鈦。目前,對于4兆比特超大規模集成電路,鈦的純度要求達到4n5(99.995%)~5N(99.999%),而對于16兆比特第三代超大規模集成電路,鈦的純度要求達到6N(99.9999%)。



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